【真空鍍膜機(jī)之卷繞機(jī)構(gòu)設(shè)計(jì)中應(yīng)考慮的問(wèn)題】①提高卷繞速度的問(wèn)題,。卷繞速度即是帶狀基材運(yùn)動(dòng)的線速度,，它是卷繞機(jī)構(gòu)的一個(gè)主要技術(shù)指櫟,。國(guó)內(nèi)早期鍍膜機(jī)卷繞速度只有10m/min，現(xiàn)在也只有80m/min～120m/min,，在國(guó)外日本的EW系列產(chǎn)品中,，其卷繞速度已達(dá)到300m/min，德國(guó)L．H公司生產(chǎn)的鍍膜機(jī)已達(dá)到600m/min,，可見(jiàn)隨著鍍膜技術(shù)的發(fā)展,，卷繞速度有待提高。②帶狀基材的線速恒定問(wèn)題,。這一問(wèn)題也很重要,，因?yàn)橹挥芯砝@機(jī)構(gòu)保證帶狀基材的線速恒定，才能使基材上鍍層厚度均勻,。這一點(diǎn)對(duì)制備帶狀基材的功能性膜（如電容器膜）尤為重要,。③帶狀基材的跑偏和起褶問(wèn)題。隨著卷繞速度的提高,，帶狀基材在卷繞鍍膜過(guò)程中,，起褶和發(fā)生偏斜，嚴(yán)重時(shí)會(huì)造成基材的斷裂,，使生產(chǎn)中斷，既影響生產(chǎn)效率,，又浪費(fèi)材料,。因此，在卷繞機(jī)構(gòu)的設(shè)計(jì)中應(yīng)充分考慮這一問(wèn)題,。真空鍍膜機(jī)廠家qian十,。重慶射頻離子源批發(fā)價(jià)格

【真空鍍膜機(jī)鍍塑料件時(shí)抽真空時(shí)間過(guò)長(zhǎng)是什么原因？】(1)真空室有漏氣現(xiàn)象：da家都知道,，真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)是的基本條件是工件在真空狀態(tài)下才能進(jìn)行鍍膜加工的,，若真空室有漏氣現(xiàn)象而沒(méi)有經(jīng)過(guò)檢漏找出漏氣位置，則真空鍍很長(zhǎng)時(shí)間都不能抽得上來(lái)的,；(2)即使真空室沒(méi)有漏氣,，因?yàn)樗芰袭a(chǎn)品的放氣量da，所以抽真空,，特別是高真空很難達(dá)到,。真空室內(nèi)太臟放氣，而且由于塑料產(chǎn)品的放氣,，造成真空室內(nèi)鍍膜氣體的不純,，有雜氣的存在，造成鍍膜產(chǎn)品的顏色發(fā)暗,，發(fā)黃,，發(fā)黑等,。（3）也許是真空機(jī)組的抽氣能力不夠了，油被污染或氧化了,。（4）真空室有漏水,。（5）抽空管道有漏氣。天津離子束輔助沉積射頻離子源專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)真空鍍膜機(jī)國(guó)內(nèi)有哪些產(chǎn)商,？

【真空鍍膜機(jī)真空檢漏方法之靜態(tài)升壓法】靜態(tài)升壓法屬于真空檢漏法中的一種,，也是簡(jiǎn)單易行的真空系統(tǒng)檢漏方法，因?yàn)樗恍枰妙~外特殊的儀器或者特殊物質(zhì),，通過(guò)測(cè)量規(guī)管就可以檢測(cè)真空系統(tǒng)的總漏率,，從而確定真空系統(tǒng)或部件是否滿(mǎn)足工作要求。雖然勝在簡(jiǎn)單,，但也存在局限,。如果真空系統(tǒng)或容器存在漏孔的話，靜態(tài)升壓法是無(wú)法確定漏孔所在的,。因此在確定系統(tǒng)是否有漏孔的同時(shí)還需要確定其位置的話,，就需要配合其他方法來(lái)進(jìn)行了。靜態(tài)升壓法的操作只要將被檢容器抽空至相應(yīng)的壓力范圍,，再關(guān)閉閥門(mén),，隔離真空泵與真空容器，然后用真空計(jì)測(cè)量記錄真空容器中壓力隨時(shí)間的變化過(guò)程,，即可得出泄漏數(shù)據(jù),。《真空系統(tǒng)抽氣達(dá)不到工作壓力有哪些原因》中,，螺桿真空泵廠家介紹的判斷方法即是通過(guò)靜態(tài)升壓法實(shí)現(xiàn)的,，比較方便。當(dāng)然在應(yīng)用過(guò)程中,，要提高準(zhǔn)確性就要減少其他因素干擾,，需要在檢測(cè)之前對(duì)容器進(jìn)行凈化清洗并烘干，或者用氮?dú)膺M(jìn)行沖洗,。更嚴(yán)格一點(diǎn)可以在測(cè)量規(guī)管與容器之間設(shè)置冷阱,，處理釋放的可凝氣體，而對(duì)可能存在的漏孔所漏進(jìn)的空氣不會(huì)造成影響,。

【真空鍍膜設(shè)備維修保養(yǎng)技術(shù)】一,、當(dāng)鍍膜設(shè)備工作完成到兩百個(gè)鍍膜的時(shí)候，拆出密封圈,，及時(shí)清潔設(shè)備環(huán)境（室內(nèi)環(huán)境）,。如何清潔保養(yǎng)？首先我們要使鍍上去的膜層掉落，同時(shí)釋放氫氣,，清洗過(guò)程中要注意所使用到的溶液會(huì)灼傷人體的皮膚,，所以通常我們要小心謹(jǐn)慎用堿飽和溶液不斷來(lái)回清洗真空適合內(nèi)部（內(nèi)壁），再用清水洗刷真空室,，并通過(guò)抹布沾上汽油擦拭抽閥里面的污漬,。二、當(dāng)閥泵連續(xù)工作一個(gè)月之后,，為保持設(shè)備的正常運(yùn)轉(zhuǎn)我們需要更換油,。將泵啟動(dòng)，擰開(kāi)放油螺栓,，使泵內(nèi)的舊油完全排放出來(lái),。擰回放油螺栓，觀察油視鏡倒入新油加到一定額度,，平常換油時(shí)應(yīng)將油蓋打開(kāi),，有需要時(shí)用布擦干凈箱內(nèi)污垢。三,、擴(kuò)散泵連續(xù)使用6個(gè)月以上,，抽的速度會(huì)顯然變慢，當(dāng)操作不當(dāng)應(yīng)拆去聯(lián)結(jié)水管,，卸下電爐盤(pán),，將一級(jí)噴嘴擰出，先用汽油將泵腔及泵膽清洗一遍,，再用洗衣粉兌水清洗一遍,，然后用清水徹底清洗干凈，待水份揮發(fā)干以后,，裝好泵膽，加入新擴(kuò)散泵油,，并裝回機(jī)體,，接好水管，裝好電爐盤(pán),，便可以重新開(kāi)機(jī),。在重新開(kāi)機(jī)前，要注意檢漏工作,。首先啟動(dòng)維持泵,，關(guān)好da門(mén)，數(shù)分鐘后,，觀察擴(kuò)散泵部分真空度是否達(dá)到標(biāo)準(zhǔn),，否則要進(jìn)行檢漏。檢查聯(lián)接處的密封圈是否正常。真空鍍膜機(jī)的培訓(xùn)資料,。

本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于：本申請(qǐng)的束徑約束器通過(guò)驅(qū)動(dòng)組件驅(qū)動(dòng)滑環(huán)旋轉(zhuǎn),，以使葉片轉(zhuǎn)動(dòng)來(lái)進(jìn)行光闌的大小調(diào)節(jié)，調(diào)節(jié)方便且調(diào)節(jié)精度高,；而采用包含該束徑約束器的束徑控制裝置進(jìn)行束徑調(diào)節(jié)時(shí),，通過(guò)在控制器上輸入離子束束徑值即可實(shí)現(xiàn)光闌大小的調(diào)節(jié)，無(wú)需關(guān)閉離子源和打開(kāi)真空腔體,，調(diào)節(jié)效率高,、自動(dòng)化程度好。附圖說(shuō)明圖1為現(xiàn)有技術(shù)中采用曲面柵網(wǎng)調(diào)節(jié)束徑的結(jié)構(gòu)示意圖,。圖2為本申請(qǐng)中離子束采用平面柵網(wǎng)的結(jié)構(gòu)示意圖,。圖3為本申請(qǐng)中束徑約束器結(jié)構(gòu)示意圖。圖4為圖3的示意圖,。圖5為為圖4的進(jìn)一步示意圖,。圖6為本申請(qǐng)中的葉片結(jié)構(gòu)示意圖。圖7為本申請(qǐng)中的束徑控制裝置的示意圖,。具體實(shí)施方式下面詳細(xì)描述本發(fā)明的實(shí)施例,，所述實(shí)施例的示例在附圖中示出，其中自始至終相同或類(lèi)似的標(biāo)號(hào)表示相同或類(lèi)似的元件或具有相同或類(lèi)似功能的元件,。下面通過(guò)參考附圖描述的實(shí)施例是示例性的,，*用于解釋本發(fā)明，而不能理解為對(duì)本發(fā)明的限制,。如圖3至6所示為本申請(qǐng)的束徑約束器的結(jié)構(gòu)示意圖,，如圖所示，該射頻離子源離子束束徑約束器,，包括底座1,、多個(gè)葉片2及驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，底座1上設(shè)置有可供離子束穿過(guò)的中空結(jié)構(gòu)11,，多個(gè)葉片2設(shè)于底座1一端并環(huán)繞底座1的中空結(jié)構(gòu)11呈圓周排布,。真空鍍膜機(jī)類(lèi)型推薦。天津離子束輔助沉積射頻離子源專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)

射頻離子源是未來(lái)科技發(fā)展的重要方向,，具有廣闊的應(yīng)用前景,。重慶射頻離子源批發(fā)價(jià)格

【真空鍍膜之磁控濺射】在陰極靶表面形成一正交電磁場(chǎng)，在此區(qū)電子密度高,，進(jìn)而提高離子密度,，使得濺鍍率提高(一個(gè)數(shù)量級(jí))，濺射速度可達(dá)0.1—1um/min膜層附著力較蒸鍍佳,，是目前實(shí)用的鍍膜技術(shù)之一,。其它有偏壓濺射,、反應(yīng)濺射、離子束濺射等鍍膜技術(shù)濺鍍機(jī)設(shè)備與工藝濺鍍機(jī)由真空室,，排氣系統(tǒng),，濺射源和控制系統(tǒng)組成。濺射源又分為電源和濺射qiang（sputtergun）,。磁控濺射qiang分為平面型和圓柱型,，其中平面型分為矩型和圓型，靶材料利用率30-40%,，圓柱型靶材料利用率>50%濺射電源分為：直流（DC）,、射頻（RF）、脈沖（pulse）,，直流：800-1000V（Max）導(dǎo)體用,，須可災(zāi)弧。射頻：13.56MHZ,，非導(dǎo)體用,。脈沖：泛用，新發(fā)展出重慶射頻離子源批發(fā)價(jià)格